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設備別名：真空燒結爐，箱式真空爐 真空爐廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材等領域的生產及實驗。真空氣氛爐是真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術，真空熱處理所處的真空環境指的是低于一個大氣壓的氣氛環境，包括低真空、中等真空、高真空，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空/燒結爐，箱式真空爐 一、真空箱式爐應用領域 該真空箱式爐以電阻絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和40段程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，真空箱式爐廣泛應用于金屬材料在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理；也可以用于特殊材料的熱處理。
二、真空箱式爐主要特點 爐門口安裝有水冷系統，氣體經過流量計后由后膛進入，并有多處洗爐膛進氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳等氣體，能抽真空，真空度可達15pa,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等，是高校、科研院所、工礦企業做氣氛保護燒結、氣氛還原用的產品。
三、真空箱式爐規格型號 設備型號 TSZ-2-12 TSZ-6-12 TSZ-8-12 TSZ-10-12 TSZ-15-12 額定溫度 1200℃ 1200℃ 1200℃ 1200℃ 1200℃ 控制精度 ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃ 爐膛尺寸（mm） 200×150×150 （H×W×D） 300×200×200 （H×W×D） 300×250×250 （H×W×D） 400×300×300 （H×W×D） 500×400×400 （H×W×D） 發熱元件 進口電阻絲 進口電阻絲 進口電阻絲 進口電阻絲 進口電阻絲 真空度 100pa 100pa 100pa 100pa 100pa 冷態壓升率 ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h ≦10～20pa/h 溫控方式 可控硅模塊自控 真空/燒結爐，箱式真空爐
