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除臭原理
光化學離子除臭工藝是一種安全的處理方法，除臭效率高。其原理為離子輻射直接活化臭氣分子發生分解的直接反應與輻射活化其它氣體分子再分解臭氣分子的間接反應相結合的一種氧化技術，綜合利用了高強輻射場離子對惡臭物質的破壞作用和氧對惡臭物質的氧化去除作用來去除惡臭氣體中硫化氫、氨、甲硫醇等VOC（揮發性有機物），并利用了水與氧在強輻射下分解所產生的活潑的次生氧化劑（OH自由基）來氧化分解惡臭氣體，改變臭氣分子的物化特性，終污染物質被活性氧分解成CO2、水和其他小分子化合物以達到除臭目的。高強輻射場和氧一道，存在一個協同作用，這種協同作用使該技術對惡臭的祛除速率得到7至9個數量級的增加，即反應速度增加千萬至十億倍。整個除臭過程中受外界影響少，所有的產物對人體及空氣無影響，不產生二次污染物。
