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特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品量鍍膜。
樣品室： 直徑120mm x 120mm 高 (4.75 x 4.75“)
靶材： Au 靶為標(biāo)配， Au:Pd, Pt, Pt:Pd （選件）;直徑57mm x 0.1mm厚
樣品臺(tái)： 可以裝載12個(gè)SEM樣品座，高度可調(diào)范圍為50mm
濺射控制：微處理器控制，安全互鎖，可調(diào)，較大電流40mA，程序化數(shù)字控制
濺射頭： 低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩
模擬計(jì)量：真空： Atm - 0.001mbar
厚度監(jiān)控：使用MTM-20高分辨厚度控制儀（選件）自動(dòng)終止濺射過(guò)程，
或使MTM-10高分辨厚度監(jiān)控儀（選件）手動(dòng)終止濺射過(guò)程(選件)
控制方法：自動(dòng)氣體換氣和泄氣功能，自動(dòng)處理排序，帶有“暫停”控制的
數(shù)字定時(shí)器（0－300s），自動(dòng)放氣
桌上系統(tǒng)：真空泵可置于抗震臺(tái)上，全金屬集成耦合系統(tǒng)
技術(shù)參數(shù)
樣品室大小 直徑120mm x 120mm 高 (4.75 x 4.75“)
靶材 Au 靶為標(biāo)配， Au:Pd, Pt, Pt:Pd （選件）;直徑57mm x 0.1mm厚
樣品臺(tái) 可以裝載12個(gè)SEM樣品座，高度可調(diào)范圍為50mm
濺射控制 微處理器控制，安全互鎖，可調(diào)，較大電流40mA，程序化數(shù)字控制
濺射頭 低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護(hù)罩
模擬計(jì)量 真空： Atm - 0.001mbar
厚度監(jiān)控
(選件) 使用MTM-20高分辨厚度控制儀（選件）自動(dòng)終止濺射過(guò)程，
或使MTM-10高分辨厚度監(jiān)控儀（選件）手動(dòng)終止濺射過(guò)程
控制方法 自動(dòng)氣體換氣和泄氣功能，自動(dòng)處理排序，帶有“暫停”控制的數(shù)字定時(shí)器（0－300s），自動(dòng)放氣
桌上系統(tǒng) 真空泵可置于抗震臺(tái)上，全金屬集成耦合系統(tǒng)
